气相沉积PVD中用到哪些钼制品呢？
在物理气相沉积(PVD)技术中，钼(Mo)是一种常用的材料，尤其是在制备高性能的薄膜涂层时。
钼因其高熔点、良好的导电性和热导性以及作为硬质材料的特性，在多个工业领域中展现出广泛的应用价值。
以下是PVD中钼制品的一些具体应用和形式：
钼靶材：钼靶材是PVD镀膜中的关键组件，常用于磁控溅射或直流溅射等过程中。高纯度（通常为99.95%）的钼靶用于沉积钼薄膜，以增强基材的耐磨性、耐腐蚀性或提供其他所需性能。钼靶材适用于制备耐磨涂层、防护层以及电子元件中的导电层等。
钼舟（Mo Boat）：在蒸发镀膜中，钼舟用作装载待蒸发材料的容器。由于钼的高熔点和稳定性，它适合在高温条件下承载各种材料进行蒸发沉积，保证了材料的纯净度和薄膜质量。
复合靶材：钼还可以与其他金属如钨(W)组合形成复合靶材，如钨钼靶，用于获得具有特定性能的合金薄膜，这些复合材料往往能综合两种金属的优点，如提高硬度、热稳定性和抗腐蚀性。
二硫化钼(MoS₂)涂层：虽然二硫化钼本身不是PVD过程直接使用的钼制品，但它是由钼原料通过化学气相沉积(CVD)或PVD后的后续处理（如低温离子渗硫）得到的，用于提供优异的固体润滑效果。PVD可以先沉积纯钼层，随后转化为MoS₂以获得润滑性能。
结构组件：在PVD设备内部，钼还可能用于制造加热元件、支撑架等结构部件，因为其能承受高温和具有良好的机械性能。
，钼制品在PVD镀膜技术中扮演着重要角色，不仅作为直接沉积薄膜的原材料，也作为辅助工具和结构部件支持整个镀膜过程。
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